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半导体专用_金刚石抛光研磨液

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品牌: CL
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所在地: 广东 东莞市
有效期至: 长期有效
最后更新: 2020-05-21 14:41:04
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公司基本资料信息
 
 
产品详细说明

产品详情:

金刚石多晶研磨液利用多晶金刚石良好的韧性,在研磨抛光过程中能够保持高磨削力的同时不易产生划伤。

可供规格:

单 位

粒 度

介 质

微米(um)

0.5

1

2

3

4

水性/中性/油性

5

6

7

8

9

纳米(Nm)

30

50

100

125

150

水性/中性/油性

200

250

300

应用领域:

1、蓝宝石加工:蓝宝石衬底、LED芯片、窗口片、表镜片、手机指纹识别片、手机摄像头镜片等蓝宝石材料研磨或抛光。

2、金属加工:不锈钢、铝件、铜件、模具钢、手机Logo、手机中框、手机卡槽、手机按键、手机背板、医疗器械件、模具等超硬合金金属材料研磨或抛光。

3、陶瓷加工:氧化锆陶瓷异型件、陶瓷珠、陶瓷盘、氮化铝基板、陶瓷插芯、手机陶瓷盖板、陶瓷指纹件、手表陶瓷结构件、陶瓷套筒等陶瓷材料研磨或抛光。

4、半导体加工:硅片、锗、砷化镓、磷化铟、碳化硅、氮化镓等半导体材料研磨或抛光。

5、红外晶体加工:激光晶体、磁光晶体、闪烁晶体、双折射晶体、非线性光学晶体等晶体材料研磨抛光;硒化锌、锗、硅、硫化锌、氟化钙、氟化镁、铌酸锂、碳酸锂、硫系红外等红外材料研磨或抛光。

注意事项:

1、请使用前先摇匀;

2、在使用时,可用少量蒸馏水加以稀释,建议原液使用效果更佳;

3、根据客户工艺需求可选择适合粒度,及介质调整。

原文链接(转载和复制请保留此链接):
http://www.yjoo.cn/yjgyw/show-37841.html
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